東芝、32nm世代以降のLSI向けに導入する高性能化技術を開発〜メタルゲートなど主要課題に目処 2枚目の写真・画像 | RBB TODAY
※本サイトはアフィリエイト広告を利用しています

東芝、32nm世代以降のLSI向けに導入する高性能化技術を開発〜メタルゲートなど主要課題に目処 2枚目の写真・画像

 東芝は12日に、32ナノメートル(以下、nm)世代以降の高性能LSI以降に必須とされる3種類の主要技術について、実用水準の性能や加工効率を達成する新構造・新技術を開発したと発表した。今後も、2010年度前半の量産開始を目指して開発を継続する。

エンタープライズ その他

関連ニュース

低抵抗コンタクト技術
低抵抗コンタクト技術

編集部おすすめの記事

特集

エンタープライズ アクセスランキング

  1. スマホを使う小学生未満の子ども、約2割は「自分の専用機」

    スマホを使う小学生未満の子ども、約2割は「自分の専用機」

  2. 【SecurityDays2015 Vol.1】初期化されても位置情報を発信する盗難防止サービス

    【SecurityDays2015 Vol.1】初期化されても位置情報を発信する盗難防止サービス

  3. インド政府や米政府機関も導入、米Iritechの虹彩認証カメラソリューション

    インド政府や米政府機関も導入、米Iritechの虹彩認証カメラソリューション

  4. すき家バイト女子高生のわいせつ写真で、ゼンショーHDが警察に相談

  5. マクドナルド店舗の実態、第三者検査機関に同行

  6. 東京電力、保有するKDDI株をすべて売却……1863億円

  7. 【地域WiMAX:機器ベンダーに聞く】各国製品との相互接続性試験を積極的に実施ー——日本無線

  8. 任天堂、ビデオコーデックのMobiclipを買収

  9. シビアな光条件にも対応する固定型ネットワークカメラに新モデル……アクシス

  10. DVDレンタルのゲオ、カード不要でスマホのみの会員認証が可能に……『ゲオアプリ』

アクセスランキングをもっと見る

page top