東芝、32nm世代以降のLSI向けに導入する高性能化技術を開発〜メタルゲートなど主要課題に目処 1枚目の写真・画像 | RBB TODAY
※本サイトはアフィリエイト広告を利用しています

東芝、32nm世代以降のLSI向けに導入する高性能化技術を開発〜メタルゲートなど主要課題に目処 1枚目の写真・画像

 東芝は12日に、32ナノメートル(以下、nm)世代以降の高性能LSI以降に必須とされる3種類の主要技術について、実用水準の性能や加工効率を達成する新構造・新技術を開発したと発表した。今後も、2010年度前半の量産開始を目指して開発を継続する。

エンタープライズ その他

関連ニュース

メタルゲート技術
メタルゲート技術

編集部おすすめの記事

特集

エンタープライズ アクセスランキング

  1. 【木暮祐一のモバイルウォッチ】第34回 公設図書館の新たな理想形になるか? 武雄市図書館

    【木暮祐一のモバイルウォッチ】第34回 公設図書館の新たな理想形になるか? 武雄市図書館

  2. またもバイトテロ……はま寿司、“ハサミ天ぷら”謝罪

    またもバイトテロ……はま寿司、“ハサミ天ぷら”謝罪

  3. NEC、金融機関向けの次世代営業店端末「NAVUTE(ナビュート)」発売

    NEC、金融機関向けの次世代営業店端末「NAVUTE(ナビュート)」発売

  4. 【今週のエンジニア女子 Vol.22】ここだから出来る、独自の強みを提供したい……邉見萌乃さん

アクセスランキングをもっと見る

page top