2007年2月のnm（ナノメートル）技術に関するニュース一覧

IT・デジタル 2007.2.27(Tue) 17:46

インテル、ニューメキシコのFab 11Xを改修して製造プロセス45nmに対応

　米インテルは26日（現地時間）、ニューメキシコ州リオ・ランチョにある半導体量産製造施設（Fab 11X）を45nmプロセスに対応させるため、10〜15億ドルを投じると発表した。