インテル、ニューメキシコのFab 11Xを改修して製造プロセス45nmに対応 | RBB TODAY

インテル、ニューメキシコのFab 11Xを改修して製造プロセス45nmに対応

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 米インテルは26日(現地時間)、ニューメキシコ州リオ・ランチョにある半導体量産製造施設(Fab 11X)を45nmプロセスに対応させるため、10〜15億ドルを投じると発表した。

 ニューメキシコのFab 11Xは、同社の45nmプロセス製造施設としては4番目になる。Fab 11Xでの同プロセスは2008年後半に製造を開始する予定。なお、オレゴン州にある製造施設(D1D)では、今年後半から製造が開始される予定。また、同プロセスの製造施設は、30億ドルを投じてアリゾナ州チャンドラー(Fab 32)と35億ドルかけてイスラエルのキリヤットガット(Fab 28)に建設中。Fab 32は今年後半に製造を開始し、Fab 28では2008年前半からの製造開始を予定しているという。

 45nmプロセスは次期プロセッサー「Penryn(ペンリャン)」(開発コード)に採用され、各種OSやアプリケーションでの動作が確認されているという。
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