株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山 正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、昨今高まりを見せるEUVレジスト、EUVメタルレジストでの課題解決ニーズに応えるべく、第一人者の講師からなる「EUVレジスト EUVメタルレジスト」講座を開講いたします。
EUVレジスト、EUVメタルレジストについて基礎から要求特性、課題と対策、最新技術動向および最新のロードマップにおける位置づけとビジネス動向を解説！
本講座は、2025年09月17日開講を予定いたします。
詳細：https://andtech.co.jp/seminars/1f03f801-62ec-6922-8bbd-064fb9a95405
Live配信・WEBセミナー講習会 概要
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テーマ：EUVレジスト、EUVメタルレジストの基礎と要求特性、課題と対策、最新技術動向
開催日時：2025年09月17日(水) 10:30-16:30
参 加 費：49,500円（税込） ※ 電子にて資料配布予定
U R L ：https://andtech.co.jp/seminars/1f03f801-62ec-6922-8bbd-064fb9a95405
WEB配信形式：Zoom（お申し込み後、URLを送付）
セミナー講習会内容構成
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ープログラム・講師ー
Eリソリサーチ 代表 遠藤 政孝 氏
本セミナーで学べる知識や解決できる技術課題
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１）EUVレジスト、EUVメタルレジストの基礎
２）EUVレジスト、EUVメタルレジストの要求特性、課題と対策
３）EUVレジスト、EUVメタルレジストの最新技術動向
４）EUVレジスト、EUVメタルレジストのビジネス動向
本セミナーの受講形式
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WEB会議ツール「Zoom」を使ったライブLive配信セミナーとなります。
詳細は、お申し込み後お伝えいたします。
株式会社AndTechについて
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化学、素材、エレクトロニクス、自動車、エネルギー、医療機器、食品包装、建材など、
幅広い分野のR&Dを担うクライアントのために情報を提供する研究開発支援サービスを提供しております。
弊社は一流の講師陣をそろえ、「技術講習会・セミナー」に始まり「講師派遣」「出版」「コンサルタント派遣」
「市場動向調査」「ビジネスマッチング」「事業開発コンサル」といった様々なサービスを提供しております。
クライアントの声に耳を傾け、希望する新規事業領域・市場に進出するために効果的な支援を提供しております。
https://andtech.co.jp/
株式会社AndTech 技術講習会一覧
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一流の講師のＷＥＢ講座セミナーを毎月多数開催しております。
https://andtech.co.jp/seminars/search
株式会社AndTech 書籍一覧
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選りすぐりのテーマから、ニーズの高いものを選び、書籍を発行しております。
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株式会社AndTech コンサルティングサービス
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経験実績豊富な専門性の高い技術コンサルタントを派遣します。
https://andtech.co.jp/business-consulting
本件に関するお問い合わせ
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株式会社AndTech 広報PR担当 青木
メールアドレス：pr●andtech.co.jp（●を@に変更しご連絡ください）
下記プログラム全項目（詳細が気になる方は是非ご覧ください）
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【講演主旨】
メモリー、マイクロプロセッサ等のデバイスの高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い、益々大きくなっている。微細加工を支えるリソグラフィ技術は現在最先端の3nmノードの量産工程でEUVが用いられており、今年度の2nmノード以降その役割は益々増大する。EUVレジストはこのようなEUVリソグラフィ技術の変革に対応して進展し続けている。
本講演では、最新のロードマップとEUVリソグラフィの概要を紹介した後、EUVレジストの基礎と要求特性、課題と対策、最新技術動向を解説する。注目されているEUVメタルレジスト、EUVメタルドライレジストプロセスについても詳しく述べる。最後に今後のEUVレジストの技術展望、市場動向についてまとめる。
【プログラム】
1.ロードマップ
1.1リソグラフィ技術、レジスト材料への要求特性
1.2微細化に対応するリソグラフィ技術の選択肢
1.3最先端デバイスの動向
2.EUVリソグラフィの概要
2.1露光装置
2.2光源
2.3マスク
3.EUVレジストの基礎
3.1EUVレジストの設計指針
3.2化学増幅型EUVレジストの反応機構
3.3EUVレジストプロセス
4.EUVレジストの要求特性
4.1化学増幅型EUVレジスト用ポリマー
4.2化学増幅型EUVレジスト用酸発生剤・クエンチャー
5.EUVレジストの課題と対策
5.1感度/解像度/ラフネスのトレードオフ
5.2ランダム欠陥（Stochastic Effects）
5.3EUVレジストの開発動向
5.3.1ポリマーバウンド酸発生剤を用いる化学増幅型レジスト
5.3.2ネガレジストプロセス
6. EUVメタルレジスト
6.1 EUVメタルレジスト用材料
6.2 EUVメタルレジストの反応機構
6.3 EUVメタルレジストの性能と開発動向
7.EUVメタルドライレジストプロセス
7.1EUVメタルドライレジストプロセス用材料
7.2EUVメタルドライレジストプロセスの反応機構
7.3EUVメタルドライレジストプロセスの性能と開発動向
8. EUVレジストの技術展望、市場動向
【質疑応答】
【講演のポイント】
EUVレジスト、EUVメタルレジストについて、基礎から要求特性、課題と対策、最新技術動向まで把握できます。最新のロードマップにおける位置づけ、ビジネス動向を確認できます。
＊ 本ニュースリリースに記載された商品・サービス名は各社の商標または登録商標です。
＊ 本ニュースリリースに記載された内容は発表日現在のものです。その後予告なしに変更されることがあります。
以 上
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