2007年12月のNECエレクトロニクスに関するニュース一覧

エンタープライズ 2007.12.12(Wed) 15:45

NEC、30nmレベルの高性能・低リークなCMOSを製造するチャネル構造設計技術を開発

　日本電気とNECエレクトロニクスは11日、電子線ホログラフィー技術を応用することにより、LSIトランジスタ断面の不純物分布の可視化を実現したチャネル構造設計を実現したと発表した。