富士通研究所と東京工業大学は28日に、次世代FeRAM向けの新しいメモリ材料を開発したことを発表したビスマスフェライトの成分の一部を置き換えたものを用いることで、1,000億回の繰り返し書き換えおよびリーク電流の低減に成功したとのこと。