「ボッテガ・ヴェネタ」の写真コンテスト、応募受付中

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2013年5月28日（火） 06時30分

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「ボッテガ・ヴェネタ（BOTTEGA VENETA）」が次世代の写真家発掘を目的に昨年スタートした写真コンテスト「ニュー・エクスポージャー（New Exposure）」を今年も実施する。

今回から世界中からも応募可能となった。受賞者には、賞金1万ドルとアーティストマネージメント・エージェンシーであるアート＋コマース社と、ヴォーグ社でフォトグラフィーディレクターを務めるアイヴァン・ショウの元で研修指導を受ける資格が与えられる。更に、今年の後半に発表されるボッテガ・ヴェネタのエクスクルーシブなプロジェクトにフォトグラファーとして参加できる。

応募は、[email protected]宛てに、12から20枚のファッション写真を含むポートフォリオ（PDF）を送付。締め切りは7月10日。7月下旬に審査が行われ、10名が最終選考に進出。選ばれた10名は夏の終わりまでに課題作品を提出し、審査の後、9月のニューヨークファッションウィーク期間中に最優秀賞が発表される。

審査員を務めるのは、同ブランドのクリエーティブディレクターのトーマス・マイヤー（Tomas Maier）を始め、アイヴァン・ショウ、スーパーモデルのリンダ・エヴァンジェリスタ、ファッションエディター兼スタイリストのカーリーン・セルフ・ドゥ・ドゥズィール、写真家のコリエール・ショアとクレイグ・マクディーン、メイクアップアーティストのパット・マグラス、メトロポリタン美術館衣装研究所キュレーターのアンドリュー・ボルトン、ヴィジョナリーのクリエーティブディレクターのダグ・ロイド、ヘアスタイリストのグイド・パラウ、美術商のヨッシ・ミロ、アート＋コマース社共同設立者のジミー・モファット。

今回は一般投票枠も設けられており、最終選考に進んだ10名にSNSを通して投票することができる。このファン投票で1位になった作品には、特別賞が授与される予定。

「ボッテガ・ヴェネタ」の写真コンテスト、世界中から応募受付中。SNS投票も実施

《Marie》