電子ビームマスク描画装置は、半導体の製造工程における回路原版（フォトマスク）を描画するための装置で、電子光学、精密機械制御、大規模データ処理、レーザ計測技術等の多様且つ高度な技術を統合した装置です。
電子ビームマスク描画装置には、シングル電子ビーム型とマルチ電子ビーム型の２種類があります。シングル電子ビーム型が１本の電子ビームを使うのに対して、マルチ電子ビーム型は、何十万本もの電子ビームを同時に使って描画する装置であり、より高速かつ高精度な描画が可能になります。
MBM(TM)-4000は、2nmノード対応のMBM-3000に対し、より小さいビームサイズと高い電流密度を採用しており、A14ノードに必要な解像性と生産性を備えています。
ニューフレアテクノロジーは、今後も半導体製造装置を通じて、新たな価値を創造し、半導体産業と人類、社会に貢献できるよう今後も尽力してまいります。
特長
1)50万本以上の電子ビームを高速・高精度に制御
2)MBM-3000よりも小さいビームサイズの採用により、高解像性を実現
3)データの複雑さに依存しない、高スループットと高精度の描画の両立
仕様
マスクサイズ 6inch
位置精度 1.1nm(３σ)
寸法精度 0.5nm(３σ)
MBM(TM)-4000
https://www.nuflare.co.jp/wp-content/uploads/news/news_20250930.pdf
以上
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