東京電機大学の統合データセンターにシスコ製品が採用

2007年5月16日(水) 22時38分
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ネットワークの概要図
 シスコは16日、東京電機大学の東京神田、埼玉県鳩山市、千葉県千葉ニュータウンの3キャンパスのデータセンター機能を集約した、統合データセンターのネットワーク基盤に、同社の製品が採用されたと発表した。

 今回構築されたネットワークでは、各キャンパス内のネットワーク、データセンター、およびインターネット接続のコアスイッチに「Cisco Catalyst 6506」、キャンパス間接続に「Cisco Catalyst 3560」を採用。データセンターには、仮想化サーバへの最適なアクセスと、柔軟なネットワーク構成の変更が可能な「コンテントスイッチングモジュール」搭載の「Cisco Catalyst 6506」を採用している。

 さらに、インターネット接続用のCisco Catalyst 6505には、「ファイアウォールサービスモジュール」に加えて、インターネットからのDDoS攻撃と、イントラネットからのBOT攻撃を自動検出して正常なトラフィックから分離する「Anomaly Guardモジュール」、および「Traffic Anomaly Detectorモジュール」が搭載されている。また、各キャンパスのネットワークでは、「Cisco PIX Security Appliance」のWEB認証とTelnet認証、「Cisco Catalyst 2960」のIEEE802.1X 認証、および「Cisco VPN 3000」のリモートアクセスVPN機能を使い分けることにより、ユーザのアクセス制御を行っている。
《富永ジュン》
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